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器件的横向尺寸控制几乎完全由光刻技术来实现。

光刻技术是一种在制造过程中通过光学、化学和物理原理，在硅片上精确地刻画出电路图案的技术，这种技术能够精确地控制器件的横向尺寸，从而确保器件的性能和可靠性，相比之下，其他横向元件与器件和工艺的区别在于它们可能更多地依赖于其他技术或方法来实现尺寸控制，例如机械加工、化学蚀刻等，具体区别取决于器件类型、制造工艺和应用需求等因素。

仅供参考，建议咨询半导体器件与工艺领域的专业人士获取更多详细信息。